HFCVD化学气相沉积金刚石，原理为:将含碳气氛与过饱和的氢气混合，经过某种方式活化后通在一定的气氛组成、 活化能量、衬底温度以及衬底与活化源之间的距离等条件下，在底表面沉积金刚石薄膜。一般认为， 金刚石膜的形核与生长可以分为三个阶段：
(1)含碳气体和氢气在一定 的温度下分解成碳、氢原子和其它活性游离基团，他们与基体结合先形成一层很薄的碳化物过渡层；
(2)碳原子在基体上形成的过渡层上沉积金刚石晶核；
(3)形成的金刚石晶核在适当的环境下长大成金刚石微品，继而长大成金刚石薄膜 。

纳米涂层优势：

纳米金刚石复合涂层拉拔模具，是以硬质合金（WC-Co）为衬底，采用化学气相法（简称CVD法）在模具的内孔表面涂覆常规金刚石和纳米金刚石复合涂层，并对涂层进行研磨抛光后得到的一种全新产品。内孔表面涂覆的纳米金刚石复合涂层，既具有常规金刚石涂层附着力强、耐磨的特点，又具有纳米金刚石涂层表面平整光滑、摩擦系数小和容易研磨抛光等优点，纳米金刚石复合涂层技术，不仅解决了涂层附着力这一技术难题，而且突破了金刚石涂层表面不易抛光这一瓶颈，扫除了CVD金刚石薄膜产业化的障碍。